Materials Analysis by Ion Channeling. Submicron crystallography

Среди разнообразных методов исследования структуры поверхности в последние годы \nуспешно применяются методы, основанные на изучении характеристик рассеяния ионов. \nМонография L.Feldman, J. Mayer, T. Picraux , «Каналирование ионов в исследовании материалов» посвящена очень широкому кругу вопросов по исследованию структурных дефектов поверхности и объема монокристаллов. L. Feldman - широко известный специалист в области физики поверхности и является родоначальником использования явления каналирования ионов для изучения структуры поверхности и тонких поверхностных слоев. \nКнига состоит из 9 глав и обширной библиографии, содержащей более 800 наименований. В первых четырех главах рассмотрены физические основы применения каналирования ионов для изучения дефектов кристаллической структуры, рассмотрено взаимодействие ионных пучков с поверхностью кристаллов, физика явления каналирования, рассеяние ионов на дефектах. Однако наибольший интерес представляют последующие главы, в которых на разнообразных примерах рассмотрены возможности метода ионных пучков и их каналирования для изучения структуры поверхности, имплантированных и эпитаксиальных слоев, распределения дефектов в объеме кристаллов.