Плазменные технологии в микроэлектронике. Часть 2. Особенности радикального травления полупроводниковых материалов в галогенсодержащей плазме
Владимирова Людмила Николаевна, Дикарев Юрий Иванович, Рубинштейн Владимир Михайлович, Петраков Владимир ИвановичLanguage:
russian
Pages:
22
File:
PDF, 484 KB
IPFS:
,
russian0